Applications des plasmas produits par le laser à excimères HERCULES-L: Du recuit du silicium à la lithographie par rayons X

S. Bollanti; F. Bonfigli; P. Di Lazzaro; A. Faenov; F. Flora; G. Giordano; T. Letardi; T. Limongi; L. Mezi; D. Murra; T. Pikuz; L. Palladino; A. Reale; L. Reale; A. Ritucci; A. Scafati; G. Tomassetti; A. Vitali; C. E. Zheng

Applications des plasmas produits par le laser à excimères HERCULES-L: Du recuit du silicium à la lithographie par rayons X

S. Bollanti^*, F. Bonfigli, P. Di Lazzaro, A. Faenov, F. Flora, G. Giordano, T. Letardi, T. Limongi, L. Mezi, D. Murra, T. Pikuz, L. Palladino, A. Reale, L. Reale, A. Ritucci, A. Scafati, G. Tomassetti, A. Vitali, C. E. Zheng

^*Corresponding author for this work

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Original language	French
Pages (from-to)	Pr7-133-Pr7-134
Journal	Journal De Physique. IV : JP
Volume	11
Issue number	7
State	Published - Oct 2001
Externally published	Yes

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General Physics and Astronomy

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Bollanti, S., Bonfigli, F., Di Lazzaro, P., Faenov, A., Flora, F., Giordano, G., Letardi, T., Limongi, T., Mezi, L., Murra, D., Pikuz, T., Palladino, L., Reale, A., Reale, L., Ritucci, A., Scafati, A., Tomassetti, G., Vitali, A., & Zheng, C. E. (2001). Applications des plasmas produits par le laser à excimères HERCULES-L: Du recuit du silicium à la lithographie par rayons X. Journal De Physique. IV : JP, 11(7), Pr7-133-Pr7-134.

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Bollanti, S, Bonfigli, F, Di Lazzaro, P, Faenov, A, Flora, F, Giordano, G, Letardi, T, Limongi, T, Mezi, L, Murra, D, Pikuz, T, Palladino, L, Reale, A, Reale, L, Ritucci, A, Scafati, A, Tomassetti, G, Vitali, A & Zheng, CE 2001, 'Applications des plasmas produits par le laser à excimères HERCULES-L: Du recuit du silicium à la lithographie par rayons X', Journal De Physique. IV : JP, vol. 11, no. 7, pp. Pr7-133-Pr7-134.

TY - JOUR

T1 - Applications des plasmas produits par le laser à excimères HERCULES-L

T2 - Du recuit du silicium à la lithographie par rayons X

AU - Bollanti, S.

AU - Bonfigli, F.

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PY - 2001/10

Y1 - 2001/10

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M3 - Article

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JO - Journal De Physique. IV : JP

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IS - 7

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Applications des plasmas produits par le laser à excimères HERCULES-L: Du recuit du silicium à la lithographie par rayons X

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